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半导体晶圆厂AMC多点位连续在线监测系统

简要描述:Syft Guardian半导体晶圆厂AMC多点位连续在线监测系统是一套集中式多点位监测解决方案,可持续监测不同区域内的挥发性化合物。系统适用于半导体晶圆厂空气分子污染物(AMC)管控、厂界排放监测,以及聚合物和制药生产环境的室内空气质量监测。依托 Syft Tracer™ 平台,Guardian 可提供稳定可靠的全天候连续分析。

基础信息

产品型号

厂商性质

生产厂家

更新时间

2026-09-10

浏览次数

9
详细介绍
检测限0.02ppb质量数范围10~400amu
价格区间面议产地类别进口
应用领域环保,化工,制药/生物制药,半导体

自动化多点位监测的完整解决方案

Syft Guardian半导体晶圆厂AMC多点位连续在线监测系统是一套集中式多点位监测解决方案,可持续监测不同区域内的挥发性化合物。系统适用于半导体晶圆厂空气分子污染物(AMC)管控、厂界排放监测,以及聚合物和制药生产环境的室内空气质量监测。依托 Syft Tracer™ 平台,Guardian 可提供稳定可靠的全天候连续分析。

通过优化的采样设计、自动化工作流程及内置的可定制软件,系统无需繁琐的人工采样和实验室分析,即可对多种化学性质各异的化合物进行高选择性的痕量定量分析。由此构建的监测网络兼具稳定性与可扩展性,便于用户掌握复杂生产环境中的浓度变化,并对不同区域的趋势进行直观比较。

系统设计亮点


• 覆盖全场区的自动化监测: 支持 32 个及以上采样点位的无人值守分析,采样距离最长可配置至 200 m。

集成化软件平台:集中完成系统控制、实时数据查看、报警管理及远程访问,并支持按需定制。

简单易用:配备 24 英寸触控显示屏,同时支持键盘和鼠标操作。

安全防护:配备状态指示灯塔和紧急停机(EMO)功能,满足半导体生产环境的安全管理需求。

半导体晶圆厂AMC多点位连续在线监测系统

系统设计亮点




半导体晶圆厂AMC多点位连续在线监测系统

快速响应:采用高流量连续吹扫采样设计,快速捕捉浓度变化。

更高运行可用率:维护便捷,可尽量减少检修对日常监测的影响。

灵活配置:可按应用需求选配并集成其他分析仪。

便捷部署:结构设计兼顾操作便利性与现场安装需求,便于系统接入和日常使用。


 

半导体晶圆厂AMC多点位连续在线监测系统

核心优势

  • 续开展多点位采样,无需人工逐点采集样品。

  • 分析流程简便,无需由受过专门培训的技术人员长期值守。

  • 对关键化合物的检测灵敏度可低至 pptV 级,并可输出定量浓度;报警阈值可按应用需求灵活设定。

  • 单个点位可在数分钟内自动完成分析,无需样品前处理。

  • 由同一供应商提供完整系统,并配备可扩展、可定制的化合物库。

  • 结合多种反应机制与精准可控的电离过程,获得准确、稳定且可靠的浓度结果。

 

 

半导体晶圆厂AMC多点位连续在线监测系统

 

Syft Guardian半导体晶圆厂AMC多点位连续在线监测系统技术规格

类别

项目

规格

分析性能

采样端口

最多可配置 32 个;如需更多端口,可另行咨询

采样管路长度

最长可配置至 200 m;如需更长距离,可另行咨询

化合物覆盖范围

1,500  余种挥发性有机物及无机物

端口切换时间

<5 s

线性度

R² > 0.99

动态范围

LOD(检测限)~ 10 ppmV

检测限

通常低于 20 pptV*

尺寸与重量

外形尺寸(高 × × 深)

1,955 mm × 965 mm × 1,185 mm

重量

550 kg

单点最大地面载荷

150 kg

电源要求

电压、频率及功率

220-240 VAC,50-60 Hz,1.7 kW

供电相制

单相;需提供相线、中性线及保护接地

电路保护

10 A 断路器;建议配置 10 mA 剩余电流保护

过电压类别

II

污染等级

2

接口与连接

操作界面

24 英寸彩色 LCD 触控屏

外部网络

10/100 Ethernet(TCP/IP)或   GraphQL API

主电源接口

IEC C14 母座

氮气载气接口

1/4 英寸不锈钢 Swagelok 管接头

洁净干燥空气接口

1/4 英寸不锈钢 Swagelok 管接头

颗粒物过滤器

每个采样端口配置 1 个 Millex™ 0.45 μm 疏水性 PTFE 通气过滤器

排气接口

12 mm Swagelok 尼龙管

* 针对特殊应用的具体性能,请联系 Syft 专业团队进行评估。

 

半导体晶圆厂AMC多点位连续在线监测系统

 

 

应 用

半导体晶圆厂AMC多点位连续在线监测系统

Syft Guardian应用

半导体洁净室 AMC 监测(左上);半导体冷却剂与工艺废气处理效率分析(右上);半导体车间内酸类与无机物分析(左下);化工厂/化工园区环境与厂界监测(右下)

半导体洁净室 AMC 监测

持续监测洁净室环境中的关键空气分子污染物。无机物及腐蚀性酸类可能对设备和产品造成缺陷;当浓度超过设定值时,系统可自动触发阈值报警,便于及时响应。

半导体晶圆厂AMC多点位连续在线监测系统

半导体晶圆厂冷却剂与工艺废气处理效率分析

面向半导体晶圆厂工艺废气治理系统效率评估及冷却剂泄漏监测,提供一体化环境空气分析方案。可由一套系统覆盖传统上往往需要多台不同分析仪才能完成的化合物监测。

半导体晶圆厂AMC多点位连续在线监测系统

半导体车间酸类与无机物分析

实时监测室内空气中的无机物及酸性化合物,帮助识别可能影响产品质量和生产设备的污染风险。系统可快速切换采样端口,并具备较短的 T10 T90 响应时间,从而提高多点位测量效率。

半导体晶圆厂AMC多点位连续在线监测系统

化工厂/化工园区环境与厂界监测

开展能够代表工厂厂界排放状况的环境空气监测,识别重点排放位置,并输出可用于合规管理的浓度数据。

半导体晶圆厂AMC多点位连续在线监测系统

 

 

半导体晶圆厂AMC多点位连续在线监测系统

 

 

SyftGuard件:让复杂监测流程更简单

Guardian 打造的 SyftGuard 软件,为多点位监测提供统一的管理平台。用户可根据现场环境灵活配置测量计划,并通过内置报警功能快速响应异常事件。浓度结果可在直观的数据查看器中即时访问;同时,系统持续显示仪器健康参数,为预防性维护和稳定、连续运行提供支持。

 

半导体晶圆厂AMC多点位连续在线监测系统

 

完整的系统总览

仪表板集中呈现系统状态、测量计划及实时数据,便于快速掌握整体运行情况。

主动式性能监控

持续监测关键仪器参数,为预防性服务提供依据,并帮助保障数据质量。

半导体晶圆厂AMC多点位连续在线监测系统

可定制工作

通过计划任务功能导入分析方法,并利用直观界面创建符合现场需求的自定义测量日程。

半导体晶圆厂AMC多点位连续在线监测系统

直观的数据可视化

简化数据查询、处理与导出流程,让用户能够轻松访问、分析并共享结果。

半导体晶圆厂AMC多点位连续在线监测系统

浓度阈值报警

可针对每种化合物设置两级报警阈值,并支持远程通知;当浓度超限的时候,相关人员可及时获知并迅速响应。

半导体晶圆厂AMC多点位连续在线监测系统

SIFT-MS 技术概述

择离子流管质谱(SIFT-MS)是面向气体及顶空样品开展全面实时分析的先进技术,可覆盖超痕量浓度水平。该技术将超软、精准可控的化学电离(CI)与质谱检测相结合,可快速定量挥发性有机物及永久性气体,灵敏度可达到亚 pptV 级。

Syft科技的 SIFT-MS 仪器(如 Syft Tracer™)可提供八种化学电离试剂离子:H₃O⁺、NO⁺、O₂⁺、OH⁻、O⁻、O₂⁻、NO₂⁻ 和 NO₃⁻。这些试剂离子可与待测的挥发性有机物和无机气体发生高度可控的离子-分子反应,而与空气中的主要组分(N₂O₂ArCO₂ H₂O)反应极慢或不发生反应。因此,无需预浓缩或样品干燥,即可直接分析空气中的痕量及超痕量组分。通过快速切换试剂离子,SIFT-MS 技术相较其他直接分析技术可获得更出色的分析特异性。

SIFT-MS产品优势

  • 快速获得结果:数秒至数分钟内完成分析。

  • 分析流程简单:无需配置完整实验室,非技术人员经基本培训即可操作。

  • 结果准确、可靠且可直接用于决策:灵敏度可低至 pptV 级;凭借优异的选择性,即使在复杂基质中也能检测痕量化合物,并直接输出定量结果,无需复杂的后处理。

  • 化合物覆盖广:一次分析即可检测多种化学性质各异的物质。

  • 应用领域丰富:为半导体、环境、生命科学、消费品安全、国防、食品、风味与香氛等行业提供成熟解决方案。

  • 系统稳定、维护需求低:无论部署于移动监测车辆还是实验室,Syft

产品均可实现高运行可用率,并提供全天候可靠数据。

 

 

 
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