园区/厂界VOCs多点位质谱监测预警系统

Syft Guardian是一套集中式多点位监测解决方案，可持续监测不同区域内的挥发性化合物。系统适用于半导体晶圆厂空气分子污染物（AMC）管控、厂界排放监测，以及聚合物和制药生产环境的室内空气质量监测。依托 Syft Tracer™ 平台，Guardian 可提供稳定可靠的全天候连续分析。

通过优化的采样设计、自动化工作流程及内置的可定制软件，系统无需繁琐的人工采样和实验室分析，即可对多种化学性质各异的化合物进行高选择性的痕量定量分析。由此构建的监测网络兼具稳定性与可扩展性，便于用户掌握复杂生产环境中的浓度变化，并对不同区域的趋势进行直观比较。

系统设计亮点

• 覆盖全场区的自动化监测: 支持 32 个及以上采样点位的无人值守分析，采样距离最长可配置至 200 m。

• 集成化软件平台：集中完成系统控制、实时数据查看、报警管理及远程访问，并支持按需定制。

• 简单易用：配备 24 英寸触控显示屏，同时支持键盘和鼠标操作。

• 安全防护：配备状态指示灯塔和紧急停机（EMO）功能，满足半导体生产环境的安全管理需求。

系统设计亮点

• 快速响应：采用高流量连续吹扫采样设计，快速捕捉浓度变化。

• 更高运行可用率：维护便捷，可尽量减少检修对日常监测的影响。

• 灵活配置：可按应用需求选配并集成其他分析仪。

• 便捷部署：结构设计兼顾操作便利性与现场安装需求，便于系统接入和日常使用。

 

核心优势

• 持续开展多点位采样，无需人工逐点采集样品。

• 分析流程简便，无需由受过专门培训的技术人员长期值守。

• 对关键化合物的检测灵敏度可低至 pptV 级，并可输出定量浓度；报警阈值可按应用需求灵活设定。

• 单个点位可在数分钟内自动完成分析，无需样品前处理。

• 由同一供应商提供完整系统，并配备可扩展、可定制的化合物库。

• 结合多种反应机制与精准可控的电离过程，获得准确、稳定且可靠的浓度结果。

 

 

技术规格

* 针对特殊应用的具体性能，请联系 Syft 专业团队进行评估。

 

 

园区/厂界VOCs多点位质谱监测预警系统应用

Syft Guardian应用图

半导体洁净室 AMC 监测（左上）；半导体冷却剂与工艺废气处理效率分析（右上）；半导体车间内酸类与无机物分析（左下）；化工厂/化工园区环境与厂界监测（右下）

半导体洁净室 AMC 监测

持续监测洁净室环境中的关键空气分子污染物。无机物及腐蚀性酸类可能对设备和产品造成缺陷；当浓度超过设定值时，系统可自动触发阈值报警，便于及时响应。

半导体晶圆厂冷却剂与工艺废气处理效率分析

面向半导体晶圆厂工艺废气治理系统效率评估及冷却剂泄漏监测，提供一体化环境空气分析方案。可由一套系统覆盖传统上往往需要多台不同分析仪才能完成的化合物监测。

半导体车间酸类与无机物分析

实时监测室内空气中的无机物及酸性化合物，帮助识别可能影响产品质量和生产设备的污染风险。系统可快速切换采样端口，并具备较短的 T₁₀ 和 T₉₀ 响应时间，从而提高多点位测量效率。

化工厂/化工园区环境与厂界监测

开展能够代表工厂厂界排放状况的环境空气监测，识别重点排放位置，并输出可用于合规管理的浓度数据。